فصلنامه سرامیک ایران
جلد 18، شماره 3 - ( پاییز 1401 )
جلد 18 شماره 3 صفحات 80-68 |
برگشت به فهرست نسخه ها
Download citation:
BibTeX | RIS | EndNote | Medlars | ProCite | Reference Manager | RefWorks
Send citation to:
BibTeX | RIS | EndNote | Medlars | ProCite | Reference Manager | RefWorks
Send citation to:
Hassan-Aghaei F, Mohebi M. Determining the Conditions of Mesoporous silica Coatings Synthesis via Evaporation Induced Self-Assembly on Glass Substrate. Jicers 2022; 18 (3) :68-80
URL: http://jicers.ir/article-1-460-fa.html
URL: http://jicers.ir/article-1-460-fa.html
حسن آقائی فاطمه، محبی محمدمسعود. تعیین شرایط ساخت پوشش مزوسیلیس به روش خودآرایی القاشده با تبخیر بر روی شیشه. فصلنامه سرامیک ایران. 1401; 18 (3) :68-80
دانشگاه بین المللی امام خمینی ، fa.hassanaghaei@gmail.com
چکیده: (575 مشاهده)
در میان اشکال مختلف مزوسیلیس که شامل نانو ذرات، پوشش‌ها و لایه‌های نازک، ساختارهای هسته-پوسته، الیاف‌‌ها و قطعات یک‌پارچه است، لایه‌های نازک مزوسیلیس دارای اهمیت و کاربرد زیادی در حوزه‌های مختلف نوری، الکترونیکی، انواع حسگرهای الکتروشیمیایی و سایر موارد هستند. به منظور بررسی فرآیند ساخت و تأثیر آن بر خواص پوشش، در این مطالعه، پوشش تک لایه مزوسیلیس به روش خودآرایی القاشده با تبخیر و با استفاده از هگزا دسیل تری آمونیوم برماید به عنوان عامل فعال سطحی ساخته شد. پس از آماده‌سازی محلول پایدار و پیرسازی آن به مدت‌زمان 7 روز، لایه‌نشانی انجام و به منظور خروج عامل فعال سطحی، نمونه به مدت 4 ساعت در دمای 450 درجه سانتی‌گراد کلسینه شد. برای بررسی درستی شرایط ساخت، پایداری سل و فرآیند خروج عامل فعال سطحی مطالعه شد و پوشش ساخته‌شده به کمک آزمون‌های پراش اشعه ایکس کوچک-زاویه و میکروسکوپ الکترونی مورد مشخصه‌یابی قرار گرفت. نتایج آزمون‌ها حاکی از ایجاد یک پوشش پیوسته و بسیار صاف با ضخامت 500 نانومتر و دارای یک ساختار منظم با اندازه تخلخل حدود 3 نانومتر بود.
ارسال پیام به نویسنده مسئول
| بازنشر اطلاعات | |
 |
این مقاله تحت شرایط Creative Commons Attribution-NonCommercial 4.0 International License قابل بازنشر است. |